檢測與介質接觸的製程液體
晶圓加工：腐蝕性環境中的液位控制
半導體製造涉及許多濕式工藝，例如用超純水清洗，在整個生產週期中多次執行；蝕刻工藝，需要腐蝕性化學品。無論採用何種工藝，所需的液體都必須儲存在儲存槽中，並且必須監控其液位。
然而，測量腐蝕性化學物質的液位可能會給感測器帶來特殊的挑戰，特別是如果容器壁不允許從外部檢測時。在這種情況下，我們帶有 PTFE 塗層外殼的電容式感測器是最佳的選擇。這些可以檢測與製程液體直接接觸的高導電介質（例如酸和鹼）的液位。這意味著能夠按計畫進行蝕刻或抗蝕劑塗覆、光刻顯影或化學機械拋光以及晶圓清洗等操作。
我們的液位感測器的外殼材質由不銹鋼或耐化學腐蝕的塑膠製成，例如 PTFE 或 PEEK。這些塑膠具有化學惰性且非常耐熱，並且可以承受腐蝕性很強的酸。
這表示巴魯夫的介質接觸感測器非常適合半導體產業的自動化。
您是否有特殊的應用需求？除了全面的標準產品組合外，我們還提供客製化解決方案。請聯絡巴魯夫，讓我們來解決您的需求。
Benjamin Renz，半導體與電子產品全球市場部經理
特點
- PTFE 外殼具有高耐化學性
- 適用於酸、鹼、超純水和漿料
- 透過智慧液位技術補償泡沫和附著力
- 檢測精確穩定
用於半導體產業介質接觸液位控制的產品
讓巴魯夫為您的應用提供更多解決方案
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